(Bi,La){sub}4Ti{sub}3O{sub}12; Chemical solution deposition CSD; Dielectric; Fatigue; Ferroelectric; Pb(Zr,Ti)O{sub}3; Thin film;
机译:LaNiO_3涂层Pt / Ti / SiO_2 / Si衬底上(Bi,La)_4Ti_3O_(12)/ Pb(Zr,Ti)O_3多层薄膜的铁电和介电性能
机译:在Pt / Ti / SiO2 / Si衬底上的三明治结构(Bi,La)(4)Ti3O12 / Pb(Zr,Ti)O-3 /(Bi,La)(4)Ti3O12薄膜的铁电性能
机译:不同取向的多层(Bi,La){sub} 4Ti {sub} 3O {sub} 12 / Pb(Zr,Ti)O {sub} 3铁电薄膜的外延生长
机译:(Bi,La){sub} 4Ti {sub} 3o {sub} 12 / pb(zr,ti)o {sub} 3多层薄膜在Lanio {sub} 3涂层pt / ti / siO中的介电性质{sub} 2 / si基板
机译:压电瘤应用Pb(Zr0.3Ti0.7)O3薄膜对缩放效应对缩放效应的影响
机译:硅上外延PbZr0.45Ti0.55O3薄膜的铁电和压电特性的固有稳定性与晶粒倾斜的关系
机译:在PbZrO3缓冲的Pt / Ti / SiO2 / Si衬底上组成渐变的Pb(Zr xTi1-x)O3薄膜的生长和电性能