摩擦力顕微鏡（FFM）機構を利用した極微細加工に関する研究（第14報）－液中TNL(Tribo Nanolithography)技術の開発

摘要

ナノ科学および，ナノ技術の発展にともない，新たなナノスケール加工技術が必要とされている．このような観点から，SPM を用いた微細加工に関する研究が広く行なわれている．これらの方法は大きく以下の二種類に分類される．一方はコンタクトモードで機械加工または化学的に分子を移動させ，試料表面にパターンを形成する方法である．他方はノンコンタクトモードで電気化学反応を発生させて酸化膜を形成し，それ自体を一つの構造物(ナノワイヤー，ナノパターン)として応用する方法である．本研究では，AFM ダイヤモンドチップによる摩擦現象を応用したリソグラフィー(Tribo Nanolithography, TNL)を水溶液中で行い，酸化膜の生成とエッチングを同時に発生させることで，傾斜した凸状構造を形成した．さらに，この凸状構造の加工条件依存性を明らかにし，本手法が3 次元微細構造形成に有効であるかを検討した．