机译:通过超低能量离子注入将Si纳米晶体用于非易失性存储应用
机译:多级非易失性存储应用中掺Cu HfO2薄膜的电阻转换研究
机译:等离子体增强原子层沉积HFO2铁电薄膜,用于非易失性存储器应用
机译:用于非易失性存储器应用的超低能量离子植入Si进入HFO2和HFSIO的结构
机译:非易失性存储器与易失性存储器的集成,用于嵌入式存储器体系结构和信号处理应用
机译:原子层沉积的Al2O3 / HfO2 / Al2O3三层结构在非易失性存储应用中具有出色的电阻切换特性
机译:HfO2 / SiO2叠层隧道电介质的SiN薄膜中离子注入能量对Ge纳米晶体合成的影响