机译:用于氮化碳沉积的低压膨胀热等离子体的工艺研究:1. Ar / N-2 / C2H2等离子体
机译:研究用于氮化碳沉积的低压膨胀热等离子体的过程:II。带有石墨喷嘴的Ar / N-2等离子
机译:通过扩展热等离子体化学气相沉积技术在微晶硅沉积中的新见解
机译:扩大低FC电介质沉积的热等离子体
机译:使用远程等离子体化学气相沉积沉积外延硅/硅锗/锗和新型高k栅极电介质。
机译:ReS2上的高κ介电层:Al2O3的原位热与等离子体增强的原子层沉积
机译:铝掺杂ZnO的热等离子体沉积扩展:等离子体化学对膜生长机理的影响