机译:使用非晶态TaSiN作为氧扩散阻挡层将钙钛矿氧化物电介质集成到互补的金属氧化物半导体电容器结构中
机译:纳米结构和非晶态Ru-Ge扩散阻挡层对铜金属化的扩散阻挡性能
机译:利用XRD研究TaN扩散阻挡层对铜扩散的性能
机译:使用金属氧化物半导体(MOS)电容器结构对铜扩散扩散阻挡材料性能的研究
机译:二氧化硅与用作粘附促进剂和铜在二氧化硅上金属化的扩散阻挡层的铜铝合金的相互作用的研究。
机译:核弛豫率与扩散张量的多维相关性用于非均质各向异性多孔材料的无模型研究
机译:使用非晶态TaSiN作为氧扩散阻挡层将钙钛矿氧化物电介质集成到互补的金属氧化物半导体电容器结构中
机译:非晶金属合金:铜金属化薄膜扩散阻挡层的新进展