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WETTING BEHAVIOR OF POLYDIMETHYLSILOXANE (PDMS) IONOMER ON SILICA SURFACE

机译：聚二甲基硅氧烷（PDMS）离子在二氧化硅表面上的润湿行为

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The wetting behavior of poly(dimethylsiloxane) (PDMS) ionomers on a silica surface was investigated. Spin-cast films of Li-salts of a carboxylated PDMS (Li-CPDMS) on silica resisted dewetting even after annealing at 120℃ for 144 h, while the unmodified PDMS did not even form a homogeneous film.

机译：研究了聚（二甲基硅氧烷）（PDMS）离聚物在二氧化硅表面的润湿行为。羧基化PDMS的锂盐（Li-CPDMS）在二氧化硅上的旋铸膜即使在120℃退火144 h后仍能抗湿润，而未改性的PDMS甚至不能形成均质膜。

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来源
《》|2007年|P.3060-3063|共4页
会议地点 CincinnatiOH(US)
作者
Xiaowen Zhai; Steven Swier; R.G. Schmidt; R. A. Weiss;
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作者单位

Polymer Program, University of Connecticut, Storrs, CT 06269-3136;

Department of Chemical Engineering, University of Connecticut, Storrs, CT 06269-3136;

Dow Corning Corporation, Midland, MI 48686;

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会议组织
原文格式 PDF
正文语种 eng
中图分类 TB483.3;
关键词
wetting; surfaces; ionomer; poly(dimethylsiloxane) (PDMS);

机译：润湿;表面;离聚物;聚二甲基硅氧烷（PDMS）;

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