ANOVA; Taguchi; RF magnetron sputtering;
机译:直流磁控溅射在低或高离子通量下控制沉积工艺以增强nc-TiC / a-C:H涂层的机械性能
机译:平衡磁控溅射制备的nc-TiC / a-C:H涂层的成分,力学性能和结构评价
机译:Zr和O对磁控溅射TiC _(0.5)+ ZrO _2和(Ti,Zr)C _(0.5)+ ZrO _2复合靶的磁控溅射沉积TiC(N)涂层结构和性能的影响
机译:过程参数评价对RF磁控溅射TIC薄膜涂层的力学性能影响
机译:研究工艺参数变化对离子束溅射Sc2O3和HfO2薄膜的材料性能和激光损伤性能的影响。
机译:工艺参数对健康香菇大米零食物理性能和比机械能的影响以及响应面法优化挤压工艺参数
机译:磁控溅射制备的掺硅氮化铬涂层的特性:工艺参数的影响