ns パルスレーザを用いた薄膜シリコン太陽電池溝加工におけるレーザ空間強度分布の影響

摘要

太陽光発電は再生可能エネルギーの一つとして長年注目されているが，未だ性能·費用面で問題を抱えている．その中でも薄膜 Si 太陽電池は低コスト 省資源が期待できる一方で，近年変換効率が伸び悩hでいる．その原因の一つはセルに切り分けるための溝加工で生じるデッドエリアであり，これを減少させるために絶縁性を保ちながらより横幅の小さい加工法が求められている．加工品質向上の鍵の一つは加工時の被加工物の温度分布の制御であり，そのための手段として本研究ではレーザ空間強度分布に着目した．液体光学素子により柔軟にプロファイルを変調させ，特に微細加工分野において有用であることが報告されているベッセルビームを生成し，ns パルスレーザを用いた薄膜シリコン太陽電池溝加工におけるレーザ空間強度分布の影響を実験的に検証した．