机译:在硅衬底中注入氮,防止硼穿透25- / spl Aring /栅氧化物
机译:Fe(5 / spl Aring /)+ Cu(50 / spl Aring /)多层的Mossbauer研究
机译:隧道电流和沟道电阻对sub-20- / spl Aring /栅氧化物MOSFET的沟道反型层电荷和多晶硅栅耗尽特性的影响
机译:使用在氮注入的Si衬底上生长的25 / spl Aring / -50 / spl Aring /栅极氧化物,对于0.25 / spl mu / m以下的0.25 / spl mu / m MOSFET降低了1 / f噪声和g / sub m /退化