near-field light; photolithography; o-nitrobenzyl ether; chemically amplified resist; tri-layer resist process;
机译:用于光脱保护的邻硝基苄基苯酚的分子设计;使用近场光刻技术挑战半间距22 nm
机译:使用具有a-Si掩模的近场光刻技术制造半间距32 nm抗蚀剂图案
机译:极紫外光刻技术的化学放大抗蚀剂的评估和可扩展性:超过22 nm半间距的纳米光刻技术的考虑
机译:基于O-硝基苄基乙醚的光解的光保护抗性:使用近场光刻挑战半场间距22nm
机译:探索基于溶出抑制剂的非化学放大抗蚀剂,用于193 nm光刻。
机译:22 nm分辨率的无掩模等离子光刻
机译:O-硝基苄基酚醛乙醚的分子设计,用于光保护抗蚀剂;使用近场光刻挑战半场间距22nm