机译:150 nm及更高波长的高级正色调DUV光刻胶Twoard的优化
机译:正光刻和负光刻胶中各种3维纳米/微结构加工的高级光刻模拟
机译:正性光刻胶曝光和显影的计算机模拟
机译:酸催化DUV正性光刻胶的表征与模拟
机译:i-line和DUV光刻胶的光刻性能及其在先进集成电路技术中的应用。对苯二甲酸二辛酯(5-)作为细胞外空间标记物和NMR移位试剂,用于定量测定组织。人工湿地中铬(IV)的化学性质。
机译:SU-8厚光刻胶紫外光刻工艺的综合模拟
机译:影响化学扩增DUV阳性光致抗蚀剂性能的因素。