机译:使用化学放大正性抗蚀剂和PEDOT:PSS作为保护涂层的高度耐用的电子束光刻剥离工艺
机译:用于电子束母版的耐酸树脂基化学放大正性抗蚀剂:设计和光刻性能
机译:用于化学放大正性抗蚀剂基质的耐酸树脂的基础研究
机译:在KrF化学放大正型抗蚀剂上使用树脂涂层的效果
机译:砷化镓晶片的表面化学研究在化学放大的抗蚀剂构图过程中进行,并通过荧光进行抗蚀剂研究。
机译:二氧化硅涂层对金合金与化学固化树脂结合的金属支架之间结合强度的影响
机译:不溶性表面残留物研究KRF准分子激光光刻的化学扩增阳性抗蚀剂。