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Composition of inorganic photoresists and its EBE experiment

机译:无机光致抗蚀剂的组成及其EBE实验

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摘要

We report the composition of inorganic photoresist, film making way and its EBE experiment. With the composed inorganic photoresist, the graph of 0.6 $mu@m line width is gained in our experiment.
机译:我们报告了无机光致抗蚀剂,薄膜制作方式及其EBE实验的组成。通过组成的无机光致抗蚀剂,在我们的实验中获得了0.6 $ MU @ M线宽的图。

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