首页> 外文会议>応用物理学会学術講演会;応用物理学会 >InGaN 赤色LED (I) 面内残留応力依存性
【24h】

InGaN 赤色LED (I) 面内残留応力依存性

机译:InGaN 赤色LED (I) 面内残留応力依存性

获取原文

摘要

GaN下地層の厚みの違いによって面内の残留応力を変化させた上にInGaN赤色LEDを成長し、その特性を比較した。20 mA 注入時に、発光波長は635±2 nm に統一するように各InGaN 発光層を調節してある。LED チップサイズは400 m 角である。残留圧縮応力が小さくなるにつれて、光出力は向上した。本実験の範囲では20 mA 注入時(印加電圧3.3 V)の光出力は0.64 mW, EQE1.6%, WPE 1.0%であった。
机译:由于GaN底层厚度的差异,发生了面内残余应力,并且生长了IngaN红色LED。比较特征。在20 mA注射时,发射波长将统一到635±2nm的每个IngaN发光层调整。 LED芯片尺寸为400˚M正方形。随着残留压缩应力降低,光输出得到改善。在该实验的范围内,20 mA注射的光输出(施加电压3.3V)为0.64 mW,EQE1.6%,WPE 1.0%。

著录项

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号