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【24h】

強い界面電場下において成長するCr:LiNbO_3のCrイオンの固液間分配

机译:CR:LINBO_3 CR离子在强界面电场下分配

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摘要

金属、半導体、酸化物の単結晶の育成では不純物の含有量、結晶内分布をk_0をもとに設計する ことが重要である。近年LHPG法、μ-PD法、EFG法などでファイバー状や板状など形状制御され た単結晶を作製する機会が多くなっているが、固液界面近傍に1000~10000 °C/cm程度の大きな温 度勾配が生じ、熱起電力起源(Seebeck効果)の界面電場が発生する。LiNbO_3のような酸化物の 成長では、その大きさは~1.0 V/cm程度であり融液中のイオン種に対して~ 1mm/h程度のドライブ 速度,qE (qは不純物イオンの価数、拡散定数などからなる係数でEは電場強度)を与える。この時 イオン種の実効速度はV_E = V - qE、電場存在下の平衡分配係数はk_E0 = k_0 V/ V_Eとなる。Vは界面 移動速度である。Eが大きく Vが小さいとV < qE (Ve < 0)となり陽イオン種はバルク融液側に押 しやられ界面には到達せず結晶には取り込まれないと予想される。本研究ではμ-PD法でV < qE の条件下でCrをドープしたLiNbO_3結晶を成長させ、Crが結晶に分配されるかどうか観察した。
机译:它设计的杂质的含量,并在由金属,半导体和氧化物单晶的发展基于K_0结晶分布的分布是重要的。近年来,虽然有一种生产形状来控制单晶,例如纤维状或板状的具有LHPG方法,μ-PD的方法,EFG法等形状,在约1000〜10000℃/厘米附近有许多机会在固-液界面大的温度梯度发生时,并且发生热电原点(塞贝克效应)的界面的电场。在氧化物如铌酸锂的生长,它们的尺寸为约1.0 V / cm,并且用于在熔体中的离子种类约1毫米/小时的驱动速度,QE(Q是杂质离子的价数,E是电场强度)与扩散常数等的系数。此时,所述离子种类的有效速度是V_E = V-Qe的,在电场的存在下,平衡分配系数是k_e0 = K_0 V / V_E。 V是界面移动速度。当E是大且V为小,V

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