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【24h】

SiO_2包含NiFe_2O_4ナノ微粒子への官能基修飾とイオン化支援機能

机译:含SiO_2的NiFe_2O_4纳米粒子功能术语发育和电离支持功能

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摘要

質量分析は様々な物質の調査や同定に用いられる。その代表的な手法であるマトリクス支援レーザー脱離イオン化法 (MALDI法) では、検体のイオン化を支援するマトリクスを使用する。これまでに当研究室では作製した微粒子がマトリクスとしてのイオン化支援機能を有することを見出し、従来のマトリクスでは難しいとされている低分子領域の質量分析に成功した。今回はSiO_2包含NiFe_2O_4ナノ微粒子を作製し、さらに表面にアミノ基の修飾を行うことで、MS測定における粒径との関連並びに表面修飾によるイオン化支援機能の向上を目的とした。
机译:质谱法用于研究和鉴定各种物质。基质辅助激光解吸电离方法(MALDI方法),代表性方法使用基质来辅助样品的电离。到目前为止,在我们的实验室中,已经发现产生的微粒具有作为基质的电离支持功能,并且低分子量区域的质谱在常规基质中成功。这次,制备SiO_2含有的NiFe_2O_4纳米颗粒,并在表面上进一步修饰表面的表面上的颗粒尺寸和通过表面改性的电离支持功能。

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