首页> 外文会议>LEOS Annual Meeting Conference Proceedings, 2008 IEEE >Large-area linear and nonlinear nanophotonics
【24h】

Large-area linear and nonlinear nanophotonics

机译:大面积线性和非线性纳米光子学

获取原文

摘要

Interferometric lithography provides a facile technique for the fabrication of large-areas of nanophotonic structures. Examples of both linear and nonlinear responses will be drawn from plasmonics, metamaterials, and photonic crystals.
机译:干涉光刻技术为大面积的纳米光子结构的制造提供了一种简便的技术。线性和非线性响应的示例将从等离子体,超材料和光子晶体中得出。

著录项

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号