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Embedded STT-MRAM in 28-nm FDSOI Logic Process for Industrial MCU/IoT Application

机译:适用于工业MCU / IoT应用的28nm FDSOI逻辑工艺中的嵌入式STT-MRAM

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摘要

We demonstrate, for the first time, 28-nm embedded STT-MRAM operating at full industrial temperature range (-40~125°C) with >1E+6 endurance and >10 year retention for high speed MCU/IoT application. Robust cell operation is also demonstrated after solder reflow (260°C, 90 second) and during external magnetic disturbance (550-Oe under writing). It is built on 28-nm FDSOI technology in modular format for IP reuse and has great potential to serve wide variety of applications such as IoT, and high performance MCU.
机译:我们首次展示了在完整的工业温度范围(-40〜125°C)下运行的28nm嵌入式STT-MRAM,具有> 1E + 6的耐用性和超过10年的保留时间,适用于高速MCU / IoT应用。焊锡回流后(260°C,90秒)和外部磁干扰(写入时为550-Oe)也证明了电池的鲁棒性。它基于28纳米FDSOI技术以模块化格式构建,可实现IP重用,在为物联网和高性能MCU等各种应用提供服务方面具有巨大潜力。

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