Logic gates; Aluminum oxide; Reliability; Hafnium compounds; Silicon; III-V semiconductor materials; MOSFET;
机译:广泛评估Ingaas MOS栅极堆栈中的电荷捕获动力学,以便示范改进的BTI可靠性
机译:HfO2 / Al2O3 / InGaAs栅堆叠的MOSFET中电子迁移率对栅极电压扫描宽度和沉积温度的依赖性
机译:具有互补的金属氧化物半导体兼容非金金属堆叠的硅上亚微米栅极AIGaN / GaN高电子迁移率晶体管的演示
机译:首先使用IL / Lasiox / HFO2栅极堆叠的〜3500cm / v-S电子迁移率和足够的BTI可靠性(MAX VOV高达0.6V)IN0.53GA0.47AS NFET