机译:光酸发生剂浸出对193 nm浸没式光刻中光学光污染的影响
机译:LuAG,其他高折射率浸入元件得到提升
机译:高折射率浸没式光刻中的流体-光刻胶相互作用和成像
机译:高折射率浸入光刻:防止镜片光池和识别Luag的光学行为
机译:使用驻波原子光学透镜的纳米级光刻。
机译:确定行为风险干预点以防止埃及动物市场农场和屠宰场发生人畜共患病
机译:高指数浸入式液体可实现32纳米半间距的经济高效的单次曝光光刻
机译:防止煤矿地面事故:如何识别和应对地质灾害,防止不安全的工人行为。会议记录:美国矿业技术转让研讨会