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Four Wave Mixing in Tellurium-Oxide-Coated Silicon Nitride Ring Resonator

机译:碲化钴氮化硅环形谐振器中的四波混频

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摘要

In this work, we present on the observation of four-wave mixing (FWM) in the tellurium oxide coated silicon nitride ring resonator with internal Q factor of 6 × 105 with oscillation at wavelengths ranging from 1020 nm to 2530 nm under 1590 nm pumping for threshold launched pump power of 33 mW. This result is promising for higher performance and lower threshold power nonlinear devices using CMOS-compatible and wafer-scale processing steps, enabling compatibility with existing photonic integrated circuit (PIC) technology.
机译:在这项工作中,我们将对内部Q因子为6×10的氧化碲涂层氮化硅环形谐振器中的四波混频(FWM)进行观察。 5 在1590 nm的抽运下,波长在1020 nm至2530 nm范围内振荡,阈值发射泵浦功率为33 mW。这一结果对于采用CMOS兼容和晶圆级处理步骤的更高性能和更低阈值功率的非线性器件而言是有希望的,从而能够与现有的光子集成电路(PIC)技术兼容。

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