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メンブレンレーザと大容量光通信への適用

机译:膜激光和大容量光通信的应用

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摘要

メンブレンレーザの進展について報告する.80ミクロン長の活性層を持つシリコン基板上メンブレンレーザでは基板温度50度で25.8Gbit/s,NRZ信号の変調を確認している.さらに,高速化に向けてSiC基板上のメンブレンレーザの開発も行っている.また,高効率なInGaAsPベースのメンブレン変調器とDFBレーザのSi導波路上集積についても報告する.
机译:报告膜激光器的进展。在具有80微米长度有源层的硅衬底膜激光器中,确认了25.8Gbit / s和NRZ信号调制的衬底温度。此外,SIC加速我们也开发膜在基板上的激光。还报告了高效的InGaAsp膜调制器和DFB激光器的Si波导积累。

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