内部拡散法によるNb_3Sn線材の残留応力測定および低温X線回折測定

摘要

本研究では高輝度X線を用いてNb_3Sn超伝導線材のフィラメントの回折測定と線材のX 線応力測定の2種類の実験を行った。実用超伝導線材の開発が進む中、今日では高磁場応用のハイェンドとして高性能Nb_3Sn超伝導線材の開発が急がれている。線材の生成方法としてRRP法が有力であるが、熱処理温度が低くなつた時、ぜぃ化する問題が指摘されている。組職観察より原因はCuSn合金のぜぃ化と組職内のき裂が原因であると考えられており、その他様々な観点からぜぃ化の原因の究明がなされているが、確実なェビデンスが無いのが実情である。本実験ではぜい化の原因と思われる残留物をX線回折によって明らかにすることを目的とする。