Metrology; Overlay; Scatterometry; Lithography; Multi-layer overlay;
机译:衍射计量学可测量低至45 nm的覆盖层
机译:基于衍射的覆盖计量中的目标设计多目标优化
机译:通过不同光学计量技术对工程中的添加剂制造部件的光学元件和激光器的不同光学计量技术的“相似性评估”的相似性评估结果,体积126(2020)105920
机译:基于高级衍射的光学计量覆盖功能在大批量生产中的应用
机译:在光学计量和核医学成像中使用最大似然估计的新颖应用:点衍射干涉测量法和BazookaPET。
机译:光学共振成像:具有亚衍射极限功能的MRI光学类似物
机译:大批量生产中基于光学计量系统的位置不确定性
机译:Nasa sBIR副标题:s2.03'先进光学系统's2.04'光学制造和计量'E3.02'adv Tech望远镜用于气球任务