LIDT; Fused silica; scratches; chemical etching;
机译:通过将活性离子束蚀刻与动态化学蚀刻相结合,无论如何对熔融二氧化硅表面上的激光损伤前体的无痕减轻
机译:通过结合反应离子束刻蚀和动态化学刻蚀来无痕地减轻熔融石英表面上的激光损伤前体
机译:结合反应离子刻蚀和动态化学刻蚀以提高熔融石英光学表面的耐激光损伤性
机译:减轻制造过程中的刮擦,增强熔融石英对激光损伤的抵抗力
机译:熔融石英中的高功率激光损坏。
机译:反应离子刻蚀过程中紫外激光损伤对熔融石英光学器件中污染物浓度的影响
机译:HF / HNO $ _3 $和KOH溶液中的深湿蚀刻对351 nm熔融石英光学元件的抗激光损伤性和表面质量的影响