UV curing; Sidewall; Outline fine pattern;
机译:使用负性光刻胶材料的无掩模光刻:紫外激光强度对固化线宽的影响
机译:通过UV固化压印和SU-8光刻胶的优化热粘合制备封闭的纳米流体通道
机译:使用叠氮化物官能化的聚离子液体对离子导电负性光刻胶进行UV图案化
机译:光刻胶的紫外线固化以产生精细图案
机译:基于四苯硼酸盐的光碱产生剂和牺牲聚碳酸酯的开发,用于辐射固化和光致抗蚀剂应用。
机译:基于图案化超厚光刻胶的基于MEMS的压力传感器封装的制造和性能
机译:通过使用亚氧氧基咪唑酯的聚合物的光化学反应及其在UV固化系统中的应用来产生聚合物碱基。
机译:UV焙烧/固化光刻胶用作mEms制造中的牺牲层