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Laser-based plasma sources at 6.6 and 60 nm

机译:基于激光的等离子体源在6.6和60nm

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摘要

Potential high power laser-based xenon and terbium plasma sources are identified based on the reflectivity profiles of the available LaN/B4C, LaN/B, and Al/Yb/Sio multilayer mirrors for applications such as surface processing and semiconductor industry.
机译:基于可用LAN / B4C,LAN / YB / SIO多层镜的反射率分布,鉴定基于高功率激光的氙气和铽等离子体源,用于诸如表面处理和半导体工业的应用。

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