Dew point; C4F8/N2; Gas mixtures; Charging pressure; Partial pressure;
机译:在AR / O-2 / C4F8气体混合物中产生的60和100MHz的不对称电容耦合等离子体放电的F-,O-和CF3-密度的测量
机译:使用C4F8 / Ar / O-2混合气体在双同步脉冲电容耦合等离子体中的脉冲相位滞后对SiO2蚀刻特性的影响
机译:通过注射CO 2,N 2和CO 2 / N 2,增强了低渗透性形成的渗透性施用。混合气体
机译:C4F8 / N2气体混合物的露点
机译:校正使用SF6 / C4F8 / Ar气体混合物进行深硅蚀刻时的长宽比依赖性。
机译:纳秒表面介电势垒放电下N2 / O2混合物中的快速气体加热:气体压力和组成的影响
机译:CF4 + Ar + O2和C4F8 + Ar + O2气体混合物中SiO2反应离子蚀刻动力学的特征