アモルファスTbFe垂直磁化膜へのナノスケール磁気ピクセルの形成と3次元面像表示のための光変調基礎特性

摘要

電子ホログラフィ一に基づく広視野角3次元ディスプレイ実現のために，ナノスケールのピクセルを1億個程度配列し て駆動する空間光変調器（SLM)が求められている。プロジェクタなどに用いられている液晶SLMやデジタルミラーデ バイス（DMD)は，10 μmサイズのピクセルを100万個程度2次元配列して構成されているが，これらデバイスの延長 上では上述の3D用SLMの実現は困難と考えられている。我々は，アモルファス垂直磁化膜などにレーザ光を集光した 微小スポット光で熱磁気書込みすることで，サブミクロンサイズの磁区が形成できることに着目し，この手法を応用す ることで上記の要求を満たす空間光変調器の実現を目指している。本報では，垂直磁化を有するアモルファスTbFe薄膜 に多数のナノスケールピクセルを形成し，この磁気ピクセルの形成状態とホログラフィックな光位相変調状態とを実験的 に調べた結果について報告する。