EUV; Mask; Mask Cleaning; Electrostatics; Metastable Cleaning;
机译:等离子体辅助分子束外延生长的不同等离子体种类(原子氮,亚稳态N_2〜*和离子)对稀氮化物光学特性的影响
机译:用于压印和成型光刻应用的碳基材料的等离子体氟化
机译:等离子清洗技术去除混合材料
机译:通过亚稳态原子中和通过等离子体辅助清洁从光刻材料中除去碳和纳米颗粒(Pacman)
机译:使用能量和高能“快速”电子的密度测量亚稳态原子密度,电子能量分布函数中检测到与射频感应耦合等离子体氦放电产生的余辉等离子体相关的电子能量分布函数
机译:碳基材料的等离子氟化用于压印和成型平版印刷应用
机译:碳基材料的等离子氟化,用于压印和成型平版印刷应用
机译:固体表面低能电子衍射,离子中和和亚稳态原子去激发的电子自旋极化效应。最终报告,1981年1月1日至1985年12月31日