W: two-photon-absorption rate; δ: two-photon-absorption cross section; I: incident intensity; Φ: phase; Δ_x: lateral shift x-direction; Δ_y: lateral shift y-direction; X_(holo): x-component of the complex field in the pupil plane of the objective len;
机译:无掩模光刻中的数字镜设备和液晶显示器,用于制造基于聚合物的全息结构
机译:反射电子束光刻:使用反射电子束光刻概念的无掩模电子束直接写入光刻方法
机译:ArF水浸式光刻技术的后续产品:EUV光刻技术,多电子束无掩模光刻技术还是纳米压印技术?
机译:动态掩模全息光刻
机译:动态无掩模全息光刻及其应用。
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机译:动态无掩模全息光刻及其应用
机译:用于无掩模光刻的单个碳纳米管发光体的动态特性