机译:激发频率对硅烷等离子体中光发射强度与沉积速率之间关系的依赖性
机译:使用RF(13.56 MHz)等离子体激发频率以高沉积速率制备非晶态和微晶硅太阳能电池
机译:通过等离子增强化学气相沉积(具有双频,超高频和高频),在低温下高速沉积SiO_x膜并获得机械性能
机译:多功能高速率等离子沉积和加工,具有非常高频激励
机译:具有衬底偏置的超声等离子体喷射化学气相沉积系统中的立方氮化硼膜沉积和过程诊断。
机译:射频等离子体增强化学气相沉积(RF PECVD)反应器中样品高度对氮化硅薄膜光学性能和沉积速率的影响
机译:在等离子体增强化学气相沉积过程中,氢化非晶硅中的固有应力与激发频率的关系
机译:使用超高频等离子体以高沉积速率制备基于a-si:H的三结太阳能电池:年度技术状况报告,1998年3月11日至11月11日至11月