机译:WF_6中激光诱导的钨和熔融石英刻蚀
机译:飞秒激光诱导的钨在硅衬底上准周期性结构的化学气相沉积
机译:硅环丁烷为原料气的热丝化学气相沉积中钨丝老化的研究及H_2刻蚀效果
机译:激光诱导钨钨 - 氢气氛中钨的蚀刻和沉积
机译:在感应耦合等离子体反应器中研究碳氟化合物沉积和蚀刻对硅和二氧化硅蚀刻工艺的影响(使用三氟化甲基),并开发了用于研究等离子体与表面相互作用机理的反应离子束系统。
机译:通过组合激光诱导的背面湿法蚀刻和激光诱导的化学液相沉积方法将耐用的微铜图案沉积到玻璃中
机译:激光诱导刻蚀快化学气相沉积Cu薄膜合成的少层石墨烯
机译:六氟化钨(WF 6)沉积钨二氧化钨(W-UO2)复合材料的钨包层,任务1