arsenic; atomic force microscopy; cadmium compounds; carrier density; cathodoluminescence; doping profiles; Fermi level; gallium compounds; grain boundaries; III-V semiconductors; II-VI semiconductors; milling; molecular beam epitaxial growth; semiconductor doping; sem;
机译:通过扫描电容显微镜通过扫描掺杂CdTe薄膜的成像孔密度不均匀性
机译:CdS / CdTe薄膜中的超快电荷载流子弛豫和电荷转移过程
机译:CdTe纳米晶体基薄膜的光电导性:Te2-配体导致载流子扩散长度超过2μm
机译:砷掺杂CdTe薄膜中非均匀活性电荷载体的纳米级成像
机译:并五苯薄膜中载流子的光生和输运。
机译:通过原位掺杂克服多晶CdTe薄膜中的载流子浓度极限
机译:克服多晶CdTe薄膜中的载流子浓度限制,原位掺杂