Technologies for FPD masks; Photomasks for Proximity Printing; Photomasks with RET: OPC/SRAF; Multi-Tone Masks with no Phase Shifts;
机译:邻近X射线光刻的印刷特性以及在100和70 nm技术节点上与光学光刻的比较
机译:中性粒子接近光刻:无电荷的伪像的非接触式纳米印刷
机译:中性粒子平版印刷:离子束邻近印刷中与电荷相关的伪像的简单解决方案
机译:新的半色调光刻用于FPD接近印刷
机译:通过电光刻和电印刷光刻进行纳米级蛋白质图案化。
机译:基于光聚合动力学模型的立体光刻3D打印预览
机译:在接近印刷模式下运行的衍射相移光刻光掩模