Lithography; hyper-NA; freeform surfaces; deep ultraviolet;
机译:极化对ArF超数值孔径光刻技术对衰减相移掩模的影响
机译:使用超数值孔径ArF工具表征45 nm衰减相移掩模光刻
机译:超数值孔径浸没式光刻的具有不同偏振的单一抗反射涂层优化
机译:具有自由形状表面的超数孔径光刻物镜的公差分析
机译:使用相移掩模在高数值孔径光刻中表征偏振照明。
机译:使用λ= 1.56 µm飞秒源的超数值孔径(NA = 2.8)显微镜进行多光子成像
机译:PTychography作为高数孔径极端紫外线光刻的波前传感器:分析和限制