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机译:锗和硅的时分复用深反应离子刻蚀—机理比较及在X射线光学中的应用
机译:锗和硅的时间多路复用深反应离子蚀刻 - X射线光学机制的比较及其应用
机译:用于高级热机应用的将碳化硅与碳化硅和氮化硅连接到氮化硅的分析和实验评估阶段2.最终报告