机译:用于应变仪应用的溅射镍铬合金(Ni-Cr 80/20 wt。%)膜的表征
机译:YBa_2Cu_3O_(7-delta)薄膜的低压大面积磁控溅射沉积
机译:使用等离子体辅助反应溅射沉积进行氮化硅薄膜的高速沉积
机译:使用工业高速溅线溅射系统沉积压阻薄膜用于应变计施用
机译:用于微机电系统的薄膜镍钛形状记忆合金的溅射沉积和表征。
机译:新型溅射镀膜系统直接沉积的薄膜应变计的研制表征和高温适应性
机译:铜-铋-硫材料体系以及通过溅射和蒸发的Cu3BiS3薄膜沉积在光伏电池中的应用
机译:用于HmC(混合微电路)应用的氮化钽,钛和钯薄膜沉积的DC磁控溅射系统的表征。