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Properties of Cu Doped NiO Transparent Oxide Thin Films by Sol-Gel Solution

机译:溶胶-凝胶法掺杂Cu的NiO透明氧化物薄膜的性能

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摘要

Wide band-gap oxide semiconductor nickel oxide thin films were prepared by sol-gel spin-coating under various annealing temperatures from 250 to 450 °C and Cu doping amounts from 0 to 20 at.%. The optical and structural properties of these films significantly depend on the temperature and the Cu doping amount.
机译:通过在250至450℃的各种退火温度和0至20at。%的Cu掺杂量下进行溶胶-凝胶旋涂来制备宽带隙氧化物半导体氧化镍薄膜。这些膜的光学和结构性质显着取决于温度和Cu掺杂量。

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