【24h】

Reliability LU Appropriate Designs in an HV nLDMOS

机译:可靠性Lu在HV NLDMOS中的适当设计

获取原文

摘要

In an nLDMOS,both the drain-side and source-side engineering by adding Nad and Pad layers to obtain a weak snapback characteristic are presented in this work.In this paper,we will detailedly discuss the trigger voltage (Vt1) and holding voltage (Vh) distribution of a novel high-voltage (HV) nLDMOS device.It's a novel method to reduce the Vt1 and to increase the Vh.Therefore,these efforts will be very suitable for the HV applications in power management ICs.
机译:在NLDMOS中,通过添加NAD和焊盘层来获得漏极侧和源侧工程以获得弱卷向后的特性。在本文中,我们将详细讨论触发电压(VT1)和保持电压( VH)一种新型高压(HV)NLDMOS设备的分布。它是减少VT1的新方法和增加VH。因此,这些努力将非常适合电源管理IC中的HV应用。

著录项

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号