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Comparison of the Process Margin between FFS and IPS mode

机译:FFS和IPS模式之间的过程边际比较

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摘要

ITO CD, rubbing angle and polarizer angle dependent characteristics in the FFS mode have been studied by using LC simulator (TechWizLCD 2D). We confirmed that the FFS Mode's process margin is better than IPS mode.
机译:通过使用LC Simulator(TechWizlcd 2D)研究了FFS模式中的ITO CD,摩擦角和偏振角依赖性特性。我们确认FFS模式的过程裕度优于IPS模式。

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