Monolithic polymer microlens arrays with anti-reflective structures using a metal annealed mask

机译：使用金属退火掩膜的具有抗反射结构的整体式聚合物微透镜阵列

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This work presents a simple method for a nanofabrication of antireflective structures (AR) over the surface of polymer microlens arrays by incorporating a metal annealed mask and isotropic etching. The reflection of AR microlens is 83% lower than that of conventional microlens.

机译：这项工作提出了一种简单的方法，通过结合金属退火掩模和各向同性蚀刻，在聚合物微透镜阵列的表面上纳米制造抗反射结构（AR）。 AR微透镜的反射比常规微透镜的反射低83％。

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来源
《16th International Conference on Optical MEMS and Nanophotonics》|2011年|p.145-146|共2页
会议地点
作者
Jung Hyukjin; Song Cheol; Jeong Ki-Hun;
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作者单位

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会议组织
原文格式 PDF
正文语种
中图分类光电子技术的应用;
关键词
antireflective structure; imaging; metal annealing; microlens arrays; resist melting (reflow);

机译：防反射结构;成像;金属退火;微透镜阵列;抗蚀剂熔化（回流）;
入库时间 2022-08-26 15:07:57

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