Ge-doped silica; KrF excimer laser; refractive index;
机译:折射率变化对掺Ge的二氧化硅中Ge(1)缺陷的依赖性
机译:Ge掺杂石英纤维中布拉格光栅中光致密化对折射率调制的贡献
机译:退火对掺Ge二氧化硅薄膜光致发光的影响
机译:紫外线辐照诱导的Ge掺杂二氧化硅膜的折射率增加
机译:测量共价固定的寡核苷酸膜在熔融石英光纤上的折射率,以优化核酸生物传感器。
机译:使用低折射率多孔二氧化硅膜的表面等离子体共振传感器的性能提升图
机译:通过电子束照射在Ge掺杂的硅上二氧化硅薄膜上形成Ge-纳米团簇。簇的大小和密度可以通过照射强度和时间来控制。
机译:眼镜中的Ce exp +3 - 和Tb exp +3-发光。 Ce exp +3 -activated Bulk silica和silica Thin Films。基于Ce exp +3激活的二氧化硅薄膜的α-粒子检测器。 Ce exp +3 -Tb exp +3-能量转移