fluoropolymer; cyclo-polymerization; photoresist; 157nm lithography;
机译:157nm微光刻用含氟聚合物抵抗材料
机译:基于SSQ的157nm光致抗蚀剂的开发
机译:一种用于157nm光刻的新型光致抗蚀剂材料3:聚[2-羟基-3-氧杂戊基乙烯基磺酸酯-co-4-(1,1,1,3,3,3-六氟-2-羟丙基)苯乙烯]
机译:157nm光刻中用于胶束的含氟聚合物的开发
机译:探索建筑和成分异构含氟聚合物的结构-特性关系:设计,合成,表征和应用。
机译:氯三氟乙烯乙酸乙烯酯丙烯酸丁酯Veova 10和丙烯酸的一步一步半连续乳液聚合制备的水性含氟聚合物的合成和表征
机译:157nm光刻含氟聚合物抗蚀剂特性研究。