机译:氧化物/电解质界面上简单离子吸附的理论描述中的1pK和2pK质子化模型:电位滴定曲线的温度依赖性分析
机译:离子辐照下氮化铜膜中氮溅射产率的停止功率依赖性:激子模型方法
机译:质子剂量学中以双分子化学反应建模的EBT2膜响应的LET依赖性
机译:超薄薄膜质子停止层数依赖性的简单物理模型
机译:碳的质子总反应截面的能量依赖性的测量以及质子-碳弹性散射的光学模型分析
机译:蒙特卡洛计算能量范围为50–400 MeV的质子的EBT3和EBT-XD薄膜的质量阻止能力
机译:离子辐照下氮化铜膜中氮溅射产率的停止功率依赖性:激子模型方法