silicon; gallium compounds; III-V semiconductors; wide band gap semiconductors; semiconductor epitaxial layers; MOCVD; vapour phase epitaxial growth; semiconductor growth; surface roughness; surface morphology; electron density; edge dislocations; screw;
机译:金属有机化学气相沉积法在凸形蓝宝石衬底上生长的GaN薄膜的空间应力分布和光学性能
机译:通过有机金属化学气相沉积在蓝宝石和SiC衬底上生长的高电流增益渐变GaN / InGaN异质结双极晶体管
机译:金属有机化学气相沉积法在AlN缓冲/蓝宝石衬底上生长的半绝缘GaN的研究
机译:v / III助焊比和Si-掺杂浓度对蓝宝石底物上的金属化学 - 气相沉积种植的甘掺杂浓度
机译:通过蓝宝石上的金属有机气相沉积(MOCVD)生长的N型氮化镓的电学表征。
机译:金属有机化学气相沉积在蓝宝石衬底上生长的低Al成分p-GaN / Mg掺杂Al0.25Ga0.75N / n + -GaN极化诱导的反向隧穿结
机译:通过金属有机化学气相沉积在蓝宝石衬底上生长的alN / GaN金属 - 绝缘体 - 半导体结构的电容 - 电压表征