ultraviolet lithography; photonic crystals; optical fabrication; optical losses; light propagation; deep UV lithography; planar photonic crystal structure; fabrication tool; nanophotonics; telecom wavelength; low propagation losses; 248 nm;
机译:使用248 nm深紫外光刻技术在绝缘体上硅上制造光子晶体
机译:使用248 nm深紫外光刻技术在绝缘体上硅上制造光子晶体
机译:使用248纳米深紫色光刻在绝缘体中的光子晶体在绝缘体中的制造
机译:平面光子晶体结构的深紫色光刻
机译:微/纳米光子结构的高效基于III族氮化物的UV / Deep-UV发光器件。
机译:基于UV纳米压印光刻和热压印的二维二氧化硅光子晶体的偏振调制与制备方法
机译:使用248nm深紫外光刻技术在绝缘体上硅(SOI)中制造超紧凑光子结构