School of Radar Confrontation, National University of Defense, Hefei, China,School of Optoelectronic Information, University of Electronic Science and Technology of China, Chengdu, Sichuan, China;
ZnO-TFT; magnetron sputtering; ZnO substrate material;
机译:通过不平衡磁控溅射制备的BI(X)SI(Y)O(Z)薄膜的结构和形态学特性磁控溅射平衡)
机译:直流磁控溅射和大功率脉冲磁控溅射制备的薄膜的比较研究
机译:无定形SnO2:TA薄膜的电气和光学性质,由DC和RF磁控溅射制备:对反应气体类型的影响进行系统研究
机译:磁控溅射制备的ZnO-TFT性能研究
机译:非垂直入射反应磁控溅射制备的金属氮化物(氮化铝,氮化钛,氮化ha)薄膜的织构演变。
机译:磁控溅射电镀铜/镍多层爆炸箔电爆炸性能的研究
机译:直流磁控溅射与大功率脉冲磁控溅射制备CrNx薄膜的比较研究