Nikon Corporation, 201-9, Miizugahara, Kumagaya, Saitama, 360-8559, Japan;
Nikon Precision Europe GmbH, Alderstone Road, Livingston, EH54 7DN, UK;
Nikon Corporation, 201-9, Miizugahara, Kumagaya, Saitama, 360-8559, Japan;
wavelength reduction; source power; transmission; homogeneity;
机译:光刻:EUV波长的光刻
机译:设计含二硫键的光致抗蚀剂,具有极低的体积收缩和UV纳米压印光刻的优异降解能力
机译:使用紫外-纳米压印光刻和热收缩膜制造具有纳米-微观结构的超疏水表面
机译:光刻中波长缩收的演变
机译:光刻的短波长限制。
机译:采用奇数表面等离子体激元模式的大面积深亚波长干涉光刻
机译:用于复制的闪光反射光栅的基板 - 保形印记光刻中溶胶 - 凝胶抗蚀剂的X射线验证