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Holography in photoresist materials: 1991 update

机译:光刻胶材料中的全息图:1991年更新

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摘要

Abstract: Salient factors are discussed for the production of holograms in photoresist materials including choosing and handling photoresist emulsions and establishing criteria for properly exposing and developing photoresist to produce high quality rainbow images. Comparisons are drawn with the more familiar silver halide emulsions and with microlithography where such comparisons are deemed helpful. !26
机译:摘要:讨论了在光致抗蚀剂材料中产生全息图的显着因素,包括选择和处理光致抗蚀剂乳剂以及建立适当曝光和显影光致抗蚀剂以产生高质量彩虹图像的标准。用更熟悉的卤化银乳剂和微光刻法进行比较,这些比较被认为是有帮助的。 !26

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